行業應用_行業應用

CPS-24000納米粒度儀助力鼎龍攻克“卡脖子”材料技術難題據長江商報報道，在發布會現場，我司納米粒度分析儀的用戶鼎龍股份集團旗下子公司武漢柔顯科技股份有限公司、湖北鼎匯微電子材料有限公司、武漢鼎澤新材料技術有限公司，及聯合單位武漢鼎龍匯達材料科技有限公司發布了多款重磅新品，展示了半導體CMP用拋光墊、清洗液、修整盤、拋光液、納米研磨粒子以及OLED顯示光敏聚酰亞胺、封裝墨水、低溫光阻材料等20余款“卡脖子”材料。而化學機械拋光（Chemical mechanical polishing，CMP）是集成電路芯片的一個關鍵制程，國內拋光所用關鍵材料CMP拋光墊，幾乎全部依賴進口。 ? CMP典型的拋光漿料都是納米級發煙硅石(5Vol%，170-230nm)、高純硅膠(9Vol%，60 - 80nm)、氧化鈰(6Vol %，200 - 240nm)或氧化鋁顆粒，它們的粒度或粒度分布必須小心地進行控制以免在拋光面上產生刮痕。CMP漿料的分散穩定性和保存期也是必須被認真考慮的重要環節。這種納米漿料的使用濃度一般在(5- 30W%)，容易聚集。隨著貯存時間延長，它的粒度可能增大從而導致損害的產生。 CMP漿料粒度分析的難點在于必須在拋光過程中全濃度條件下快速測定平均顆粒直徑和粒度分布，因為稀釋可能導致漿料穩定性和粒度的變化(比如進一步的團聚或解聚)，另外在稀釋后的漿料中很難檢測本來就極少量的團聚體。 CPS-24000型納米粒度分析儀是最新型的納米粒度分析儀，它采用斯托克斯定律分析方法，V = D2(ρP -ρF) G / 18 η，即顆粒沉降的速度與顆粒的尺寸平方成正比來進行粒度的測量，因此粒徑相差小至1%的顆粒都可以明顯分辨出來。適用于極稀到高濃度的樣品粒度測定，對團聚體的存在非常敏感。 ? 為了提高粒徑的測量精度，需要極高的圓盤轉速，目前市面上常見的運行速度最高在15000RPM，而國內在1500RPM，無法滿足CPM化學機械拋光的需求。 CPS-24000納米粒度儀的最高轉速為24000轉，測試范圍在5nm-75um，每次加樣只需要0.1ml，降低樣液的測試成本，可連續測量多達40個樣品。 CPS納米粒度分析儀的使用方法已經列入國標，包括《金屬粉末粒度分布的測量-重力沉淀光透法》、《煤礦粉塵粒度分布測定方法》、《橡膠配合劑-炭黑-聚集體尺寸的測定-使用光跟蹤盤式離心沉淀儀法》等儀器的主要參數為測量范圍：0.005-75μm ? 光源：405nm LED ? 旋轉速度可選：12.000 RPM、18.000 RPM、24.000 RPM ? 標準分析圓盤：CR-39聚合物（耐有機溶劑和水溶液） ? 可選配：低密度樣品分析擴展、變速圓盤；自動密度梯度液生成器（型號 AG300）；自動進樣器（型號AS200）；標定用標準顆粒 ? ? 測試結果如下：

磁懸浮天平重量法吸附儀

容量法

InfraSORP快速吸附能力評價分析儀

OilWear 清潔度與磨損人工智能分析

油液水分及健康度監測

OilCMS便攜式油液一體化工作站

智能油液監測套裝

氫氣源發電系統

高壓氫氣源

RuboHyco便攜式高壓儲存氫源

Eye Tech激光粒度粒形分析儀

CPS納米粒度分析儀

Zeta-Meter 4.0+ 系列Zeta電位儀

PD-10電鏡粉末制樣儀

Galvanic

Hobré Instruments B.V.

儲氫

非常規油氣的開發利用

化學鏈的置換燃燒

清潔能源—碳中和

混合氣體的競爭吸附和選擇性吸附

藥物

建筑材料和固體燃料研究

纖維的粒度粒形分析

燃燒香煙的粒徑分布

疫苗研發中病毒顆粒粒徑分布

活性污泥絮凝的粒徑分布

氯堿行業一/二次鹽水中的鈣鎂分析

金屬冶煉中銅離子的檢測

石化煉廠中鈉離子的檢測

石化行業

行業應用

磁懸浮天平在非常規油氣中應用

磁懸浮天平在儲氫方面的應用

CPS-24000納米粒度儀助力鼎龍攻克“卡脖子”材料技術難題